分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3

產(chǎn)品簡介
●非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測
●采用分光干涉法實現(xiàn)高度檢測再現(xiàn)性
●可進行高速的即時研磨檢測
●可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測
●可對應長工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設備中
●體積小、省空間、設備安裝簡易
●可對應線上檢測的外部信號觸發(fā)需求
●采用最適shi合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得專zhuan利)
●可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-12-08

廠商性質：生產(chǎn)廠家

訪問量：817

產(chǎn)品咨詢 18117546256

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統(tǒng)

光探測磁共振譜超快瞬態(tài)吸收拉曼光譜熒光光譜顯微缺陷膜厚半導體晶圓缺陷檢測儀高光譜測試系統(tǒng) 太陽能電池量子效率太陽光模擬器IV系統(tǒng) 顯微光電流成像系統(tǒng) 探測器光響應度系統(tǒng) 光譜變溫附件探針臺熒光系統(tǒng) 組合熒光系統(tǒng) 鏡頭透過率測試系統(tǒng) 漫反射率測試系統(tǒng) 反射、吸收率系統(tǒng) 成像亮度計標準燈參考輻射定標電致發(fā)光系統(tǒng) 常規(guī)發(fā)射光譜系統(tǒng) 共聚焦拉曼光譜儀

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顯微分光膜厚儀的智能化功能與操作體驗

顯微分光膜厚儀是一種高精度的測量儀器

這臺精密電動角位移臺不僅穩(wěn)定性佳而且精度也很高

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即時檢測

WAFER基板于研磨制程中的膜厚

玻璃基板(強酸環(huán)境中)于減薄制程中的厚度變化

規(guī)格式樣

	SF-3
膜厚測量范圍	0.1 μm ~ 1600 μm※1
膜厚精度	±0.1% 以下
重復精度	0.001% 以下
測量時間	10msec 以下
測量光源	半導體光源
測量口徑	Φ27μm※2
WD	3 mm ~ 200 mm
測量時間	10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 最小Φ6μm

上海波銘科學儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學機械和光學平臺、激光器、Edmund 光學元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學測試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導體測試設備及高低溫探針臺系統(tǒng)。經(jīng)過多年的發(fā)展，上海波銘科學儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽度，客戶遍布全國。我們將繼續(xù)努力，不斷提升市場地位和影響力。

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